Aktuality

Nové produkty
- Ochranné oděvy CLEANTEX rozptylující elektrostatický náboj dle EN 1149-5
- ESD výstražná vesta dle EN ISO 20471:2013

Kontakty

CLEANTEX a.s.
Olomoucká 26
CZ-79601 Prostějov

tel: +420 - 582 335 576
fax: +420 - 582 331 004

cleantex@cleantex.cz

Certifikát

jsme držitelem certifikátu systému řízení jakosti
ČSN EN ISO 9001:2009

ČISTÉ PROSTORY (CRC)

Oděvy pro čisté prostory CLEANTEX jsou určeny do čistých prostorů (tzv. CLEANROOM), ve kterých je předepsána čistota vzduchu. Podle stanoveného přípustného množství prachových částic a jejich velikosti v jednotce objemu vzduchu se rozdělují čisté prostory do jednotlivých tříd čistoty podle specifikace norem US Fed. Stand., předpisu WHO PIC, nebo ISO 14644-1.

Třídy čistoty dle jednotlivých norem:
  • USA 209D = 1, 10, 100, 1 000, 10 000, 100 000
  • USA 209E = M1.5, M2.5, M3.5, M4.5, M5.5, M6.5
  • ISO 14644-1 = 3, 4, 5, 6, 7, 8
  • WHO PIC = A, B, C, D
Naše oděvy jsou certifikovány jako „Ochranné pracovní oděvy pro čisté prostory, typ CLEANTEX“. Na základě zkoušek na „linting“ a podle filtračních a bariérových vlastností materiálových typů jsou tyto doporučeny pro určité třídy čistoty. Při výrobě jsou použity výhradně komponenty vhodné pro cleanroom. Podle požadavku zákazníka vyrobíme také oděvy pro čisté prostory také ve shodnosti s normami ČSN EN 61340-5-1 (tzn. ESD CLEANROOM) nebo ČSN EN 1149-1, ČSN EN 1149-5 (tzn. čisté prostory s možností vzniku elektrostatického náboje). Dále vyrábíme také oděvy pro čisté prostory s chemickou odolností a hydrofobními vlastnostmi.
 
Vlastnosti oděvů CLEANTEX:
  • úplná bariéra proti částicím 0,5 - 5 micr.
  • neuvolňují částice
  • odolnost proti stárnutí
  • možnost snadné dekontaminace
  • nedochází ke zpětnému ukládání částic
  • potlačení elektro-statického náboje
  • možnost sterilizace (parou, etylénoxidem, zářením gama nebo beta)
  • odolnost k penetraci kapalin pro specifické aplikace

Nabízíme další doplňky a vybavení vhodné pro čisté prostory, jako například obuv, rukavice, utěrky, čistící fólie, atp.